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ATLab宣布开发出电阻式多点触控技术




  韩国ATLab Inc宣布开发出电阻式多点触控(Resistive Multi Touch,R-MT)技术,Han wool Information Tech (HWIT)公司将负责制作产品。据ATLab表示,其技术具备电阻膜触控屏幕的低价优势,且性能可超越iPhone。

    现今,多点触控方案主要有光电式, 电容式与电阻式。其中光电式单点触摸(Optical single touch)已经以TIR (Total Internal Reflection)模式商业化,而光电式多点触控已由 New York University 开发成功,现已应用在Microsoft的Tablet PC上。电阻式单点触控技术也已广泛地应用在包括Samsung Haptic Phone的各类Smart Phone上,而多点触控也已由Stantum公司开发完成。电容式多点触控则已由Apple成功应用在iPhone里。

  ATLab 此次所开发的电阻式的R-MT为100%数字电路,可达到快速的反应速度,并且可以减少功率消耗。R-MT不仅可同時使用手指及触控笔进行韩文, 英文, 汉字等各种文字的手写输入,并且可用手指放大或缩小图片。相反电容式多点触控(Capacitive Multi Touch: C-MT) 只能用手指输入简单的英文字体。R-MT在制作成本方面比C-MT廉价,且已有3项相关专利。(KRAP10-2008-0127410, KRAP10-2009-0014944, KRAP10-2009-0028199)

    此R-MT产品还结合了HWIT的最新技术,大幅简化了制作过程,并用UV Ink与嵌入ITO的Poly Carbonate取代了以往使用光学薄膜与2张ITO film的方式。使用此技术所制作的产品,可大幅减少制作成本,提高产品制作速度,并且还可以提高良率。应用此方式可减少10~15%成本支出。

  ATLab Inc还研发出了将电阻式与电容式的优点结合的R+C触控技术。另外,ATLab今后更打算为各种客户的不同需求提供ASIC Solution,并为客户制作出刻制化的产品。

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