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半导体薄膜蚀刻液金属铟回收再利用




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  平面显示器大量应用于日常生活电子产品,如:TFT-LCD应用于笔记型计算机、桌上型计算机、液晶电视或电话手机等;STNLCD则应用于尺寸较大的电子字典、电子娱乐产品、PDA、行动电话、低阶笔记型计算机等;TNLCD主要应用于手表和计算器,使得LCD需求持续扩增。
  TFT-LCD厂主要制程包含:在玻璃基板上制作薄膜晶体管(Array)制程、液晶灌注面板(Cell)制程及模块化(Module)制程等三项。“薄膜晶体管”制程为TFT-LCD最主要技术,其原理是在玻璃基板上利用导电体涂布、微影照相及曝光显像等精密技术,制作电极基板做为传递讯号、电压控制的组件(即薄膜晶体管)。
  其制程是将玻璃基板入料清洗后,涂布“靶材”薄膜,靶材原料为金属(如铝、铬)或半导体薄膜(如ITO),做为导电电路基材;于薄膜上均匀涂布“光阻”,并利用已微影照相完成的“光罩”进行曝光,当光阻完成曝光、显像工程后,即可获得所需的导电线路;利用“蚀刻液”将不需要的金属或半导体膜去除,仅留下光阻所保护的导电线路膜,最后再利用“剥离液”将表面光阻去除后,金属或半导体导电线路膜即可成型;重复薄膜形成、光阻涂布、曝光、显像、蚀刻、光阻剥膜等程序约五至八次(分别针对各层金属或半导体膜)后,即可完成薄膜晶体管之电极基板(上基板)。
  金益鼎企业公司表示,半导体薄膜(ITO)蚀刻,大部分以酸性螯合液进行,大陆的TFT-LCD厂并未针对此——ITO蚀刻液进行回收金属铟,均排放至废水处理厂进行处理。金益鼎已着手与成功大学合作,进行ITO废蚀刻液采样并规划进行ITO蚀刻液之金属铟回收,成绩显著,可达到资源永续使用的目的。

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